最先端の半導体技術を活用し、高速・高繰り返しのパルスを発生する電源を製造・販売しています。
高周波パルス電源
最大500 kHz, 2.5 kWの高周波・高電圧パルスを発生させる電源です。プラズマなどの応用に適しています。
ナノインパルス発生器
高電圧SiCスイッチの活用により、立ち上がり速度100 ns以下の超高速パルスを発生させる電源です。プラズマ応用や絶縁試験器に適しています。
最先端の半導体技術を活用し、高速・高繰り返しのパルスを発生する電源を製造・販売しています。
最大500 kHz, 2.5 kWの高周波・高電圧パルスを発生させる電源です。プラズマなどの応用に適しています。
高電圧SiCスイッチの活用により、立ち上がり速度100 ns以下の超高速パルスを発生させる電源です。プラズマ応用や絶縁試験器に適しています。